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然而，科技同时实现均匀的空位制造和缺陷MoS2纳米片的三维自组装仍然具有挑战。本工作作为以HZIF为前驱体的新进展，实现提供了一种模块化策略来触发惰性MoS2基面的电催化活性，也可扩展到其他类型过渡金属卤化物的合成。

 图五、中国准已准c-MoS2-C在电化学析氢方面的理论分析（a）c-MoS2电子密度差分图的顶视图和侧视图。（l，引领由压标m）c-MoS2-C的EDS元素映射。(II)酸蚀法断裂Zn-S键，国确形成c-MoS2−C。

到目前为止，特高大多数报道的空位产生方法，包括电子/离子束辐射、退火和电化学还原，都是耗能和/或耗时的，并且高度依赖于MoS2的几何形状。【图文导读】图一、经成际标形成c-MoS2-C的原理图（I）在惰性气氛中退火HZIF-Zn/Mo和S粉末，合成ZnS-MoS2−C。

自发现以来，为国就受到广大科研工作者的极大关注。

此外，电力定DFT计算表明，新产生的内部边缘位置破坏了MoS2基面的周期性电子结构，从而优化了氢吸附/解吸的表面电荷配置。自2003年成立开始，科技海盗湾就被全世界版权组织视为眼中钉、肉中刺，被重重围剿。

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